Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力的2D 測量。Alpha-Step臺階儀光學杠桿傳感器技術提供高分辨率測量，大垂直范圍和低觸力測量功能。 ...
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Element美國EDAX能譜儀
EP6美國 Cascade Microtech EP6探針臺
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學輪廓儀
主動隔振臺ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
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iNano高精度臺式納米壓痕儀
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Profilm 3D經(jīng)濟三維光學輪廓儀 可測樣
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性價比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
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非接觸式輪廓儀優(yōu)點就是測量裝置探測部分不與被測表面的直接接觸，保護了測量裝置，同時避免了與測量裝置直接接觸引入的測量誤差。Zeta-20三維光學輪廓儀集成了六種光學計量技術。 ZDot 測量模式同時采...
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Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術的經(jīng)濟三維光學輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測量。我司有此機器可測樣。
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Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料，又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測，其...
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與X射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...
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公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型、紫外光固化型、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術相關的化學藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑...
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P-170是cassette-to-cassette探針式輪廓儀，將P-17臺式系統(tǒng)的測量性能和經(jīng)過生產(chǎn)驗證的HRP®-260的機械傳送臂相結合。 這樣的組合為機械傳送臂系統(tǒng)提供了低成本，適...
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P-7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀保持了P-17技術的測量性能，并作為臺式探針輪廓儀平臺提供了好的性價比。 P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行2D和3D測量，其掃描可達150mm而無需圖像拼接...
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高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工藝，可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標準模板分為三類：Quartz Molds, Silicon M...
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SHNTI的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的Z大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載樣品。 X-射線越軟(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀...
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納米壓印的技術與工藝特點，*性地設計和制備工作于低真空環(huán)境下，結合正負壓可控調(diào)節(jié)并利用壓縮空氣作為壓印驅(qū)動力的，通過壓力傳導裝置、緩沖與勻壓、壓力調(diào)節(jié)控制裝置等手段實現(xiàn)平穩(wěn)可靠可控的壓印過程，借助于多...
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俄羅斯產(chǎn)高性價比掃描探針顯微鏡原子力驅(qū)近系統(tǒng)的機械設計可使得經(jīng)過幾次驅(qū)近之后仍然能獲得相同的檢測區(qū)域。掃描位移大約為500nm，這個特點可以讓您在幾周內(nèi)仍然能夠研究相同的樣品區(qū)域。
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產(chǎn)品分類掃描探針顯微鏡
日本原裝隔振平臺
能譜儀
輪廓儀
光纖光譜儀
俄羅斯NT-MDT針尖耗材
納米團簇束流沉積系統(tǒng)
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超高真空脈沖激光鍍膜系統(tǒng)
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粒度儀
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探針臺
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納米壓痕儀
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硬度計
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隔振臺
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光學表面缺陷分析儀
電子束曝光系統(tǒng)
聚合物筆印刷
原子力顯微鏡
外延薄膜設備
光刻機
低溫設備
鍍膜機
長晶設備
顯微鏡
晶圓檢測
組裝與封裝設備
021-64283335
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為了滿足現(xiàn)代材料研究的挑戰(zhàn)，Swift開發(fā)了一系列*可定制的原位拉伸試樣臺。這些拉伸試樣臺適合多種顯微觀測系統(tǒng)，比如掃描電鏡、透射電鏡、光學顯微鏡、共聚焦顯微鏡等。支持EBSD，樣品加熱和冷卻,可實現(xiàn)...
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Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力的2D 測量。Alpha-Step臺階儀光學杠桿傳感器技術提供高分辨率測量，大垂直范圍和低觸力測量功能。 ...
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非接觸式輪廓儀優(yōu)點就是測量裝置探測部分不與被測表面的直接接觸，保護了測量裝置，同時避免了與測量裝置直接接觸引入的測量誤差。Zeta-20三維光學輪廓儀集成了六種光學計量技術。 ZDot 測量模式同時采...
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Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術的經(jīng)濟三維光學輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測量。我司有此機器可測樣。
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iNano高精度臺式納米壓痕儀是一種緊湊，用戶友好的納米機械測量系統(tǒng)，設計用于硬涂層，薄膜和少量材料。該系統(tǒng)旨在進行準確，可重復的納米級機械測試，包括壓痕，硬度，劃痕和通用納米級測試。iNano具有很...
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Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料，又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測，其...
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Filmetrics R50 是KLA電阻測試家族的最新產(chǎn)品。R50方阻測試儀是KLA超45年電阻測量技術地位之作。電阻測量和監(jiān)控對于任何使用導電薄膜的行業(yè)都至關重要，從半導體制造到可穿戴技術所需的柔...
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高精度原子力顯微鏡 ParkNX10為您帶來納米級分辨率的數(shù)據(jù)，值得您信賴、使用和擁有。 在SmartScanAuto有的智能模式下，系統(tǒng)自動執(zhí)行所有必要的成像操作，同時智能選擇好的圖像質(zhì)量和掃描...
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Nano Indenter® G200原位納米力學測試系統(tǒng)是一種準確，靈活，使用方便的納米級機械測試儀器。 G200 測量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個數(shù)量級的形變測量。 可測量聚合...
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SPRm200 表面等離子共振顯微鏡工作原理基于表面等離子共振（SPR）技術。是世界上先將表面等離子體共振技術和光學顯微鏡巧妙結合為一體的生物傳感檢測儀。可以同時得到細胞原位明場成像、SPR成像、及S...
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與X射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...
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原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機經(jīng)濟型科研沉積平臺 穩(wěn)定成膜、均勻可靠、面向材料研究便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高
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緊湊型臺式光刻系統(tǒng)重新定義無掩模光刻技術LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺式光刻系統(tǒng)利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實現(xiàn)無掩模圖案化。設計簡潔，精準它將微加工技術從潔凈室和任何研究或...
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SUME BW510是用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的半自動晶圓鍵合設備，具備良好的壓力與溫度均勻性較為特的結構設計保證鍵合的壓盤相對水平，優(yōu)良的真空系統(tǒng)以及腔體設計，方便簡潔的菜單編輯和設備狀態(tài)監(jiān)控以及安全保...
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自由曲面三維面型檢測儀自由曲面光學元件應用于智能車載顯示、AR 顯示、手機鏡頭、激光顯示、照明、 光刻等前沿領域，自由曲面三維面型檢測儀，能夠非接觸測量光學鏡面元件的三維面型數(shù)據(jù)，開展三維輪廓分析和三...
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晶圓翹曲應力測量儀具備三維翹曲（平整度）及薄膜應力的檢測功能，適用于半導體晶圓生產(chǎn)、半導體制程工藝開發(fā)、玻璃及陶瓷晶圓生產(chǎn)
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從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制，該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進行表面微觀測量分析和粗糙度質(zhì)量評價。白光干涉原理。
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Strain Viewer 內(nèi)應力檢測儀具備化合物晶圓內(nèi)應力分布測量及缺陷篩查等檢測功能
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高級研究型高光譜顯微系統(tǒng)結合了高光譜技術和顯微鏡技術，能夠在不同波長范圍內(nèi)獲取高分辨率的光譜信息與生物樣品形態(tài)圖，實現(xiàn)在一張圖中同時獲取光譜和圖像信息。該系統(tǒng)還運用AI技術實現(xiàn)虛擬染色，大幅度提高病理...
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